opengl - 早期模板剔除，无需早期 z 剔除

Question

我已经知道答案，但我需要确定。

我分两次渲染场景。 在第一遍中，如果深度测试成功，我将模板位标记为 1:

glEnable(GL_STENCIL_TEST);
glStencilMask(GL_TRUE);
glStencilOp(GL_KEEP, GL_KEEP, GL_REPLACE);
glStencilFunc(GL_ALWAYS, 1, GL_TRUE);

第二遍仅写入模板为 1 的位置:

glStencilFunc(GL_EQUAL, 1, GL_TRUE); // Pass test if stencil value is 1
glStencilMask(GL_FALSE); // Don't write anything to stencil buffer

事实上，这工作正常，但我预计性能会有巨大的提高。 第二遍中使用的着色器很特殊:它使用 discard 和 gl_FragDepth 效果。 这使得早期 z 剔除变得不可能。幸运的是，我只对早期模板剔除感兴趣。

所以我的问题是:有没有办法在不进行早期 z 剔除的情况下利用早期模板剔除的优势？

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此线程与此非常相关one ，但我确实需要在第二个着色器中使用 discard 和 gl_FragDepth 效果...

Answer 1

不存在早期模板测试这样的事情。或者早期的 Z/深度测试。只有early fragment tests ，其中恰好包括模板和深度测试，还包括其他操作。它们不能在早期零碎地进行；要么早要么晚。